报告题目：纳米压印光刻胶研究和论文撰写的一点体会

报 告 人：吴思 教授

报告时间：2024-04-03 14:30-16:30

报告地点：机电楼302

主办单位：机械与车辆工程学院

报告人简介：

吴思，中国科学技术大学教授，国家高层次人才计划入选者，曾在德国马普高分子所担任课题组组长，主持了国家自然科学基金重点国际（地区）合作研究项目、面上项目、德国科学基金会项目。研究方向为光响应高分子。作为通讯作者在Nat. Chem.、Nat. Commun.、Adv. Mater.、Angew. Chem. Int. Ed.和J. Am. Chem. Soc.等杂志上发表了论文。

报告内容简介：

一、纳米压印光刻胶领域的研究进展。介绍课题组研发的和传统纳米压印光刻胶原理不同的可逆光刻胶。可逆光刻胶利用了光响应高分子在光照下发生的可逆相态转变。可逆光刻胶解决了传统的纳米压印光刻胶保质期短和压印结构缺陷难以被纠错的问题。另外，可逆光刻胶的加工精度高、适用性广泛，能在不同材质的材料上加工高精度的纳米结构。

二、如何撰写高水平科技论文。介绍论文写作的一般流程、常见错误及论文画图的一些建议。

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